Sputtering Targets für Datenspeicher & ElektronischTeile
Unser kompetenter und sehr profesioneller Hersteller von Kathoden und Sputter Targets liefert Kathodenund Targets aus Materialien für die magnetische Datenspreicherung, opitsche Disks, Halbleiter usw. Hersteller von Datenspeichern können das Sputter Target Material selbst zusammenstellen und wir fertigen daraus die gewünschetn Targets. So sparen Sie Zeit und Kosten.
So sparen Sie Zeit und Kosten bei der Entwicklung von neune Oberflächen für Ihre Datenspeicher.
Element | Formel | Reinheit (%) | Dichte (g/cm³) |
Gold | Au | 99,99 | 19,3 |
Silber | Ag | 99,99 | 10,5 |
Kupfer | Cu | 99,9 - 99,99 | 8,96 |
Aluminium | Al | 99,5 - 99,99 | 2,70 |
Silikon | Si | 99,999-99,9999 | 2,33 |
Chrom | Cr | 99,5 - 99,99 | 7,19 |
Chrom Molybdän | CrMo | 99,5 - 99,95 | / |
Chrom Wolfram | CrW | 99,5 - 99,95 | / |
Chrom Molybdän Tantalum | CrWTa | 99,5 - 99,95 | / |
Cobald Eisen Boron | CoFeB | 99,5 - 99,95 | / |
Titanium Aluminium | TiAl | 99,5 - 99,9 | / |
Aluminium Silikon | AlSi | 99,9 - 99,99 | / |
Aluminium Kupfer | AlCu | 99,9 - 99,99 | / |
Silber Titanium | AgTi | 99,9 - 99,99 | / |