Hubert Heusner

Hubert Heusner Industrievertretungen und Handel - Sputter Targets
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Sputter Targets        flagge-grossbritannien.png

Unsere Stärken sind die schnelle Fertigung von Kathoden und Sputter-Targets oder Sputtering Targets ganz gleich ob Einzelstücke oder Serienstückzahlen. Wir haben eine Vielzahl von unterschiedlichen Pulvern vorrätig und können für Sie maßgeschneiderte Sputter-Targets herstellen. Die vorhanden Maschinen und Herstellungstechnologien erlauben es Sputtering Targets ab der Losgröße EINS zu fertigen. Großen Mengen in Industrie üblichen Abmessungen liefern wir zu sehr guten Preisen. Unsere Targets haben eine sehr hohe Dichte, die verwendeten Pulver sind sehr homogen und feinkörnig und bieten Ihnen somit Targets für alle Anlagentypen mit sehr hoher Standzeit.

Wir liefern typischerweise unter 4 Wochen, teilweise sogar unter 2 Wochen wenn wie die entsprechenden Sputter Target Materialien in Pulverform vorrätig ist. Das Material für Sputter Targets bekommen wir von zertifizierten Zulieferen.

Sputter Targets in maßgeschneiderter Zusammensetzung eröffnet Ihnen zahlreiche Möglichkeiten. Für Beschichtung in der Solarzellen Fertigung werden immer neue Target-Materialien benötigt. Fragen Sie uns wir entwickeln mit Ihnen die optimale Zusammensetzung.

Wie funktioniert SPUTTERN?        
Fachbeitrag "Der reaktive DC-Magnetron Sputterprozeß"

HHI-Kathoden und Sputter-Targets und HHI-Beschichtungsmaterialien

 

Sputter Targetsund Kathoden aus Reinmetalle wie W, Mo, Nb, Cr, Ta, mit Zusätzen i

nsbesondere keramischen Zusätzen wie z.B. W-Ti, sind unse Stärke. Die Targets werden vorwiegend mittels Heißpressen hergestellt.

  • Sputter Targets in maßgeschneiderter Größe und optimalen Materialmischungen für Ihre Apllikation.
  • Diese Art Sputter Targets werden im Heispressverfahren gefertigt.
  • Auf Wunsch können wir Ihre Sputter Targets auch bonden.

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Sputter Targets aus Ruthenium können von uns in unterschiedlichen Geometrien in sehr kurzer Lieferzeit in der Losgröße EINS hergestellt werden.

  • Sputter-Targets for Photovoltaics wie z.B. Molydän-Sputter Targets in der Dünnschicht CIGSe-Solarzelle , aSi-Dünnschichtzellen und Cdte-Dünnschichtzellen sollen extrem dicht sein. Für diese Dünnschicht-Technik werden Sputter Targets aus Molybdän- und Nickellegierungen sowie Tantal (Ta), Niob (Nb), und Wolfram (W) eingesetzt. Die Metalle (Cu, In, Ga) werden aufgesputtert, aufgedampft oder galvanisch aufgebracht.
  • Sputter Targets für das Metalliseren von Dünnschichtschaltungen in der Elektronik, für Dünnschicht-Photvoltaik-Zellen, für die Flachglas-beschichtung, die optische Indutrie und für vielen anderen Bereichen werden von uns nach Ihren Wünschen entwickelt und ab der Losgröße EINS und in Serie gefertigt.
  • WC ohne Binder
  • W, Mo, Nb, und Ta-Oxide
  • Ti Carbid, Boride oder Nitride
  • Cr, oder Ti Siliczium
  • ZnS/SiO2
  • Sulfide wie MoS2, WS2
  • Unterschiedliche Legierungen aus Metal- und Keramikkombinationen

 

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Wir liefern Ihnen Sputter Targets "ON DEMAND" ab der Losgröße EINS!

  • Typische Materalien: Aluminium Alloys, Copper Alloys, Cobalt Alloys, Nickel Alloys,Silver Alloys
  • Refractory Metal Alloys (Mo-Cu, W-Cu, W-Ti, )
  • Platinum Group Metals/Alloys (e.g. Ru, Rh, Ir, Pt, ..)
  • Nitrides (e.g. AlN, BN, Si3N4,..)
  • Oxides (e.g. Al2O3, HfO2, SiO2, SiO,Nb2O5, ZnO,..)
  • Tellurides (e.g. Sb2Te3, Bi2Te3,..)
  • Titanates (e.g. BaTiO3, SrTiO3,..)
  • Carbides (e.g. B4C, HfC, Mo2C, TaC, WC, TiC,..)
  • Borides (e.g. TiB2, ZrB2,..)
  • Silicides (e.g. CrSi2, MoSi2, TiSi2,..)
  • Sulfides (e.g. MoS2, WS2,..)
  • Materials for Photovoltaics such as CuGa, CIG, CIGS or ITO, AZO, IGZO, …


Special alloys based on Cerium, Vanadium, Hafnium, Rhenium on request as well as other compositions

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